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防爆拋光機拋光程序淺析 當前位置:首頁 >> 新聞資訊  

防爆拋光機拋光程序淺析

發(fā)布時間: 2016.04.11 瀏覽次數(shù):  
  防爆拋光機拋光時,磨面與拋光盤應絕對平行并均勻的輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產生新磨痕。同時還應使試樣自轉并沿轉盤半徑方向來回移動,以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光物保持一定的濕度。濕度太大會減弱拋光機的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時,由于拋光摩擦生熱會使試樣升溫,潤滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會拋傷表面。



  為了達到粗拋的目的,要求轉盤轉速較低,最好不要超過500r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些,因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕,有待精拋消除。精拋時轉盤速度可適當提高,拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。
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